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晶体生长手册5晶体生长模型及缺陷表征(英文) (美)德哈纳拉,等 编 pdf 下载 mobi 极速 snb 夸克云 txt chm

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晶体生长手册5晶体生长模型及缺陷表征(英文) (美)德哈纳拉,等 编书籍详细信息

  • ISBN:9787560338705
  • 作者:暂无作者
  • 出版社:暂无出版社
  • 出版时间:2013-01
  • 页数:367
  • 价格:53.20
  • 纸张:轻型纸
  • 装帧:平装-胶订
  • 开本:16开
  • 语言:未知
  • 丛书:暂无丛书
  • TAG:暂无
  • 豆瓣评分:暂无豆瓣评分

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内容简介:

《Springer手册精选系列·晶体生长手册(第5册):晶体生长模型及缺陷表征(影印版)》介绍了生长工艺和缺陷形成的模型。这些章节验证了工艺参数和产生晶体质量问题包括缺陷形成的直接相互作用关系。随后的PartG展示了结晶材料特性和分析的发展。PartF和G说明了预测工具和分析技术在帮助高质量的大尺寸晶体生长工艺的设计和控制方面是非常好用的。

书籍目录:

缩略语

PartF 晶体生长及缺陷模型

36 熔体生长晶体体材料的传导和控制

36.1 运输过程的物理定律

36.2 熔体的流动结构

36.3 外力对流动的控制

36.4 前景

参考文献

37 Ⅲ族氮化物的气相生长

37.1 Ⅲ族氮化物的气相生长概述

37.2 AIN/GaN气相淀积的数学模型

37.3 气相淀积AIN/GaN的表征

37.4 GaN的IVPE生长模型——个案研究

37.5 气相GaN/AIN膜生长的表面形成

37.6 结语

参考文献

38 生长直拉硅晶体中连续尺寸量子缺陷动力学

38.1 微缺陷的发现

38.2 无杂质时的缺陷动力学

38.3 有氧时的直拉缺陷动力学

38.4 有氮时的直拉缺陷动力学

38.5 直拉硅单晶中空位的横向合并

38.6 结论

参考文献

39 熔体基底化合物晶体生长中应力和位错产生的模型

39.1 综述

39.2 晶体生长过程

39.3 半导体材料的位错分布

39.4 位错产生的模型

39.5 晶体的金刚石结构

39.6 半导体的变形特性

39.7 Haasen模型对晶体生长的应用

39.8 替代模式

39.9 模型概述和数值实现

39.1 0数值结果

39.1 1总结

参考文献

40 BS和EFG系统中的质量和热量传输

40.1 杂质分布的基预测模型——垂直BS系统

40.2 杂质分布的基预测模型-EFG系统

参考文献

PartG 缺陷表征及技术

41晶体层结构的X射线衍射表征

41.1 X射线衍射

41.2 层结构的基本直接X射线衍射分析

41.3 设备和理论思考

41.4 从低到高的复杂性分析实例

41.5 快速分析

41.6 薄膜微映射

41.7 展望

参考文献

42 晶体缺陷表征的X射线形貌技术

42.1 X射线形貌的基本原则

42.2 X射线形貌技术的发展历史

42.3 X射线形貌技术和几何学

42.4 X射线形貌技术理论背景

42.5 X射线形貌上缺陷的对比原理

42.6 X射线形貌上的缺陷分析

42.7 目前的应用状况和发展

参考文献

……

43 半导体的缺陷选择性刻蚀

44 晶体的透射电子显微镜表征

45 点缺陷的电子自旋共振表征

46 半导体缺陷特性的正电子湮没光谱表征

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其它内容:

书籍介绍

《晶体生长手册5:晶体生长模型及缺陷表征(影印版)》介绍了生长工艺和缺陷形成的模型。这些章节验证了工艺参数和产生晶体质量问题包括缺陷形成的直接相互作用关系。随后的PartG展示了结晶材料特性和分析的发展。PartF和G说明了预测工具和分析技术在帮助高质量的大尺寸晶体生长工艺的设计和控制方面是非常好用的。

书籍真实打分

故事情节:9分

人物塑造:9分

主题深度:7分

文字风格:5分

语言运用:8分

文笔流畅:6分

思想传递:3分

知识深度:4分

知识广度:5分

实用性:3分

章节划分:4分

结构布局:9分

新颖与独特:9分

情感共鸣:4分

引人入胜:7分

现实相关:7分

沉浸感:6分

事实准确性:7分

文化贡献:3分

网站评分

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